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前道涂膠顯影市場(chǎng)迎重（清理污水池公司）
盛美上海(.SH)再次向市場(chǎng)展示了其強大的研發(fā)實(shí)力。 月日，盛美上

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海在科創(chuàng )板上市一周年這個(gè)特殊的日子里，推出了里程碑式的新產(chǎn)品：前道涂膠顯影Track設

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備Ultra LITH，這標志著(zhù)盛美上海正式進(jìn)入了半導體前道涂膠顯影領(lǐng)域。 自年上市以來(lái)，

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僅一年的時(shí)間內，盛美上海便陸續發(fā)布了7款新產(chǎn)品，涉及了半導體及新型化合物半導體制造工藝的電鍍、

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清洗、薄膜沉積等多個(gè)環(huán)節，而此次的涂膠顯影Track設備，已是年內的第8款新品。 更為關(guān)鍵的是，此次前道涂膠顯影Track設備的推出，無(wú)論是對光刻產(chǎn)業(yè)亦或是對盛美上海自身而言，都具有重大意義。 從光刻產(chǎn)業(yè)來(lái)看，涂膠顯影在前道晶圓制造的光刻環(huán)節中發(fā)揮著(zhù)重要作用，是光刻機的輸入和輸出端，與光刻機配合工作，在曝光前進(jìn)行光刻涂膠覆蓋，在曝光后進(jìn)行圖形的顯影。據Gartner數據顯示，年，全球的涂膠顯影設備市場(chǎng)規模將達億美元，據此推算，中國市場(chǎng)規模已達億人民幣。 但整個(gè)市場(chǎng)呈現出一家獨大的局面。目前，業(yè)內廠(chǎng)商主要有東京電子(TEL)、日本迪恩士(DNS)、德國蘇斯微(SUSS)、臺灣億力鑫(ELS)和國內的芯源微。其中，僅東京電子一家便占據了全球%和中國%的涂膠顯影設備市場(chǎng)份額，下游制造商迫切希望能有更多的選擇。 特別是在國內市場(chǎng)，半導體設備國產(chǎn)替代已是大勢所趨，但國內涂膠顯影設備市場(chǎng)制造商稀少，國產(chǎn)化率不足5%，涂膠顯影設備的國產(chǎn)替代情勢嚴峻。而盛美上海最新推出的Ultra LITH設備可謂是恰逢其時(shí)。 從盛美上海自身的發(fā)展來(lái)看，涂膠顯影Track設備是公司繼半導體清洗設備、半導體電鍍設備、先進(jìn)封裝濕法設備、立式爐管設備四大產(chǎn)品系列外的又一新產(chǎn)品系列。在五大系列產(chǎn)品的支持下，盛美上海已然成為國內平臺級的半導體設備制造商。 這對于以單一的清洗設備起家的盛美上海而言，無(wú)疑是巨大的突破。盛美上海表示，公司將 　　

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